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覆银膜铜⽚
QLDTF7021是一款适用于芯片正面烧结的覆银膜铜片,具有优异的导电导热性能和高可靠性,能够在金、银、铜基板上实现高可靠烧结连接,为大功率器件芯片正面铜/铜烧结互连提供高可靠解决方案。
QLDTF7021 覆银膜铜⽚的优势

适用于芯片正面烧结后打铜线

铜箔边缘完好无黑边毛刺

烧结组织致密均匀

高剪切强度,剪切强度可达60MPa以上

烧结高导热性,热导率>200W/mK

基本参数
指标性能备注
尺寸可定制
铜片厚度50-100μm(可定制)
银膜厚度
50±2μm(可定制)
铜片纯度99.993%
银膜固含量>99%
是否点胶
可选/点胶直径300-400μm(若选)
储存条件常温、氮气
储存期限6个月