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烧结银膜
QLagF7110是一款适用于有压烧结工艺的纳米银膜,采用银膜转印工艺,操作工艺简单高效。烧结接头具有优异的导电导热性能和界面连接强度,适合于芯片烧结及大面积晶圆键合。
QLAgF7110 烧结银膜的优势

良好的转印操作性,无需预切,可满足嵌入式封装形式

膜厚均匀,可满足晶圆级烧结键合

高剪切强度,剪切强度可达60MPa以上

高热导率,热导率>200W/mK

基本参数
指标性能备注
固含量≥99%根据TG结果
粒径尺寸≤3 μm
卤素含量零卤素
操作工艺 转印
烧结温度230-250℃
烧结压力10-20 MPa
烧结气氛真空、惰性气氛
烧结表面Ag、Au、Cu
是否需要清洗残留物无需清洗基板表面无残留
储存条件常温、氮气气氛
保质期6个月